Stage:création de masques non-intuitifs à l'aide de réseaux de neurones pour la litho 3D H/F CEA

Toutefois, les algorithmes actuels sont conditionnés à l’utilisation de formes régulières, laissant présager de certaines limitations. Une piste intéressante qui permettrait d’aller au-delà de ces considérations serait l’utilisation de réseaux de neurones pour produire des solutions de masques idéaux, non-intuitifs. Si disponibles, de tels résultats permettraient de pousser encore plus loin les réalisations 3D possibles. Le stage s’effectuera au sein du Groupe Computational Lithography (CLG) du CEA-LETI. * Objectifs : Création de masques non-intuitifs pour la lithographie 3D par réseaux de neurones. * Aspects novateurs : Développement d’algorithmes innovants pour l’obtention de masques de lithographie optique ‘free form’. * Missions : Vous prendrez en main et éprouverez la solution de modélisation pour la lithographie 3D développée au sein de l’équipe. Vous investiguerez ensuite la mise en place, l’entraînement, la vérification puis l’utilisation de réseaux de neurones dans l’objectif de produire des agencements de masques de lithographie ‘free form’ sans contrainte. Pour cela, vous pourrez vous appuyer sur tous les résultats et simulations déjà disponibles au sein de la Plateforme Silicium du LETI. * Moyens : Librairies CLG python, Développement collaboratif SVN, Intégration continue, HPC CPU/GPU, cluster de calcul Unix dédié au CLG. Envoi des Cv et LM : sebastien.berardbergery@cea.fr PROFIL DU CANDIDAT Bac+5 Master2, ingénieur 3ème année physique, Intelligence artificielle, informatique LOCALISATION DU POSTE SITE Grenoble LOCALISATION DU POSTE France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38) VILLE GRENOBLE CRITÈRES CANDIDAT DIPLÔME PRÉPARÉ Bac+5 - Master 2 POSSIBILITÉ DE POURSUITE EN THÈSE Oui DEMANDEUR DISPONIBILITÉ DU POSTE 07/02/2022